1.薄膜材料：采用特殊工艺，在体材表面上，一层或多层，厚度为一个或几十个原子层，性质不同于体材表面的特质层。
2.气体平均自由程：指气体分子在两次碰撞的间隔时间里走过的平均距离。
3.等离子体的鞘层电位：电子与离子具有不同的速度的一个直接后果就是形成所谓的等离子体鞘层电位，即相对于等离子体，任何位于等离子体中或其附近的物体都将会自动地处于一个负电位，并且在其表面伴有正电荷的积累。
4．物理气相沉积PVD：是利用某种物理过程，如物质的蒸发或在受到离子轰击时物质表面原子溅射的现象，实现物质原子从源物质到薄膜的可控转移过程。
化学气相沉积：利用气态的先驱反应物，通过原子，分子间化学反应的途径生成固态薄膜的技术。
5.薄膜的外延生长：在完整的单晶存底上延续生长单晶薄膜的方法称为外延生长。
6.气体分子的通量：单位时间，气体分子在单位表面积上碰撞分子的频率。
7.磁控溅射：通过引入磁场，利用磁场对带电粒子的束缚作用来提高溅射效率和沉积速率的溅射方法称为磁控溅射。
8.真空规：真空测量用的元件称为真空规。
