迄今为止的FPC 制造工艺几乎都是采用减成法(蚀刻法)加工的,通常以覆铜箔板为出发材料,利用光刻法形成抗蚀层,蚀刻除去不要部分的铜面形成电路导体。由于侧蚀之类的问题,蚀刻法存在着微细电路的加工限制。
基于减成法的加工困难或者难以维持高合格率微细电路,人们认为半加成法是有效的方法,人们提出了各种半加成法的方案。利用半加成法的微细电路加工例。半加成法工艺以聚酰亚胺膜为出发材料,首先在适当的载体上浇铸(涂覆)液状聚酰亚胺树脂,形成聚酰亚胺膜。接着利用溅射法在聚酰亚胺基体膜上形成植晶层,再在植晶层上利用光刻法形成电路的逆图形的抗蚀层图形,称为耐镀层。
在空白部分电镀形成导体电路。然后除去抗蚀层和不必要的植晶层,形成**层电路。在**层电路上涂布感光性的聚酰亚胺树脂,利用光刻法形成孔,保护层或者第二层电路层用的绝缘层,再在其上溅射形成植晶层,作为第二层电路的基底导电层。重复上述工艺,可以形成多层电路。利用这种半加成法可以加工节距为5mm 、导通孔为f10mm 的超微细电路。利用半加成法制作超微细电路的关键在于用作绝缘层的感光性聚酰亚胺树脂的性能。
FPC 的基本构成材料是基体膜或者构成基体膜的耐热性树脂,其次是构成导体的覆铜箔板和保护层材料。
FPC 的基体膜材料从初期的聚酰亚胺膜到可以耐焊接的耐热性膜。**代的聚酰亚胺膜存在着吸湿性高和热膨胀系数大等问题,于是人们采用了高密度电路用的第二代聚酰亚胺材料。迄今为止人们已经开发了数种FPC 用的可以取代**代聚酰亚胺膜的耐热性膜。然而,在今后10年,人们认为作为FPC 主要材料的聚酰亚胺树脂的位置不会改变。另外随着FPC 的高性能化,聚酰亚胺树脂的材料形态会有所改变,必须开发具有新功能的聚酰亚胺树脂。